“同志们辛苦了，我代表公司奖励项目组20万元！”
二十七日下午，接到魏建国的电话，光刻机电源厂制造成功第一台arf准分子激光器样机，孙健第二天上午乘飞机来到京城，接见arf准分子激光器样机项目研制和生产项目部成员代表。
十月中旬，夏季常团队研制成功5英寸晶圆、1um制程工艺的磁悬浮式双工作台系统。
gca光刻机半导体研究院得到磁悬浮式双工作台系统的专利技术，为了早日攻克8英寸晶圆、250nm磁悬浮式双工作台系统，汤普森院长集中全院相关科研人员联手攻关，二个月的时间就先后研制成功5英寸晶圆、1um制程工艺和6英寸晶圆、800nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，如今正在研制8英寸晶圆、500nm制程工艺的的磁悬浮式双工作台系统。
按照如今的进程，明年初就能得到好消息。
按照双方签订的专利�
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