以学部委员黄坤、王首武和邓国辉为首的十二名光刻机半导体专家组成的专家鉴定组，通过现场测试，专家组组长黄坤亲自书写鉴定报告。
京城半导体设备股份有限公司研发成功的光刻机双工作台系统，在现场，对磁悬浮式双工作台系统进行了十次测试，能提升芯片制程工艺精度15%，提高芯片生产效率35%，还有不断提升的潜力，这项发明在光刻机专利技术中属于世界首创，属于重大核心技术发明，强烈推荐申请公司发明专利。
十二名专家组成员在鉴定报告上签名同意。
魏建国下午四点拿到鉴定报告，四点半来到国家专利局，递交了公司发明专利的申请，公司发明专利申请被受理，将向社会公示六个月。
磁悬浮式光刻机双平台系统是世界光刻机核心技术中的首创技术，京城半导体设备公司通过国家专利局将向美国、日本
更多内容加载中...请稍候...
本站只支持手机浏览器访问，若您看到此段落，代表章节内容加载失败，请关闭浏览器的阅读模式、畅读模式、小说模式，以及关闭广告屏蔽功能，或复制网址到其他浏览器阅读！
本章未完，请点击下一章继续阅读！若浏览器显示没有新章节了，请尝试点击右上角↗️或右下角↘️的菜单，退出阅读模式即可，谢谢！